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CDS-600真空磁控溅射镀膜设备

    典型应用 :

    在陶瓷基板(氧化铝、氮化铝、氧化铍)上沉积镍铬合金、钽(通入N2、反应生成氮化钽)来制备薄膜电路。

    主要技术指标

真空室尺寸:
Φ600mm×H600mm
极限真空:
8×10-5Pa
抽真空时间:
4×10-4Pa≤60min(空载)
溅射靶:
4个
溅射电源:
RF;DC
磁控方式:
永久磁场
基片烘烤:
红外加热器
工作主气体:
Ar(氩气)
混入气体:
O2、N2、CH4
装载量:
50×50(mm)基片60片

   ★ 产品销售热线:

    电   话:0351-6524057,6521231,6521237,6521687,6526883 
    传   真:0351-6526883
    E-mail:
scjs@163.com
    技术连线:0351-6521788

 




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